Русский
  • English
  • Русский

IBM представила первую в мире технологию производства чипов с размером менее 1 нм, продлевая действие закона Мура

2026-07-01 15:16:03

Просматривать:

26 июня — IBM официально анонсировала первую в мире технологию, позволяющую прои

26 июня — IBM официально анонсировала первую в мире технологию, позволяющую производить чипы с элементами менее 1 нанометра, что знаменует собой прорывное достижение для полупроводниковой отрасли. Технология использует инновационную архитектуру «наностек» (nanostack), в которой транзисторы вертикально укладываются в два слоя на кремниевом кристалле. Прототип имеет технологический уровень 0,7 нм и вмещает около 100 миллиардов транзисторов на площади с ноготь — вдвое больше, чем у самой передовой технологии IBM 2021 года. Учёные полагают, что новая архитектура в будущем позволит уменьшить размеры транзисторов до 0,1 нм.

Этот прорыв означает, что закон Мура — согласно которому количество транзисторов на чипе удваивается примерно каждые два года — может быть продлён как минимум ещё на десятилетие. За последние 15 лет размеры транзисторов приблизились к физическому пределу, обусловленному квантовой интерференцией (всего десятки нанометров). Новая архитектура IBM решает эту проблему за счёт «строительства вверх», а не продолжения «горизонтального сжатия». Основная задача отрасли сейчас — интеграция новой технологии IBM в глобальную производственную цепочку поставок и её внедрение в конечные устройства.

Данное заявление сделано в тот момент, когда ведущие мировые технологические компании соревнуются в разработке полупроводников, способных выдерживать всё более интенсивные рабочие нагрузки ИИ. Ожидается, что эта технология проложит путь к более быстрым и энергоэффективным вычислительным системам в будущем.


0
IBM представила первую в мире технологию производства чипов с размером менее 1 нм, продлевая действие закона Мура
26 июня — IBM официально анонсировала первую в мире технологию, позволяющую прои
Длительно нажмите на картинку, чтобы сохранить / поделиться

Тел

+8618825234070

 

 Почта

julia@lcelecl.com

 

Адрес:

Помещение A105, 1 этаж, Индустриальное здание "Сун Ий Сан", 18 улица Шин Ип, Кун Тонг, Каулун.

LOGO

热线:400-000-0000

邮箱:xx@yourdomain.com

地址:xx市xx区xx镇xx路


Copyright ©2023 All Rights Reserved xxxx有限公司 版权所有| 粤ICP备00000000号
Copyright ©2024 All Rights Reserved 香港通洲电子有限公司 版权所有 | 粤ICP备00000007号

 

Свяжитесь с нами
TOP
Свяжитесь с нами
Контактная информация
skype
+8615765437208
Адрес
Помещение A105, 1 этаж, Индустриальное здание
E-mail地址
irina@lcelecl.com
TOP
Add WeChat friend to learn more about the product
Use Enterprise WeChat
"Scan" to join the group chat
Копирование успешно!
Add WeChat friend to learn more about the product
I see.